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1200℃等离子增强HPCVD回转炉系统
产品详情
型号:OTF-1200X-II-PEC4
产品概述:OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等离子增强混合物理化学气相沉积(HPCVD)双温区回转炉系统。此系统由射频电源(带自动匹配功能)、上游原位蒸发舟、4通道质子流量计控制系统及性能优异的真空泵组成。此套完整的设备适用于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆(如:制备锂离子电池阴极粉末的导电涂层等)。
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技术参数实验案例警示/应用提示配件详情
设备名称
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1200℃等离子增强HPCVD回转炉系统—OTF-1200X-II-PEC4 (2019.12.23—科晶实验室审核)
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产品提示
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1、多种配件可选提示 2、特殊设备尺寸设备 3、科晶实验室邀请提示 4、配件妥善保管提示
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产品特点
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▪ 炉体可在0 ~ 25°内倾斜有利于粉末样品的装入和取出
▪ 射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度
▪ 齿轮驱动管式炉旋转可有效地提高复合粉末热处理的均匀性
▪ 4通道质子流量计控制系统可以对气体的输送进行精确的调控
▪ 集成在前端的带钨丝加热的坩埚舟可以对前驱体进行蒸发用于后续的混合物理化学气相沉积阶段。
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相关视频
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操作视频 回转炉+送料器操作视频
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加热炉参数
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▪ 最高温度:1200ºC(<30min),连续工作温度:1100℃;
▪ 两个PID温度控制器及30段可编程温控系统;
▪ 输入功率:208-240V,单相,最大功率:2.5KW;
▪ 高纯氧化铝纤维保温层可以最大限度降低能耗;
▪ 回转炉旋转速度:2-10rpm;
▪ 炉体开启式设计,以达到对样品快速降温,方便更换炉管。
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蒸发舟参数
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▪ 0.7mL氧化铝坩埚(由钨丝加热圈包围);
▪ S型热电偶插入坩埚中实现对蒸发物料的精确测温;
▪ 最高温度可达1300℃(<1h),长期使用温度:1200℃(当管内温度达800℃时,蒸发舟温度可达1500℃)。
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射频电源
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▪ 科晶公司现有不同功率的射频电源可供选择,以满足不同实验条件的需求。
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300W射频电源
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500W射频电源
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100W射频电源
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输出功率
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0-300W可调
(稳定性:±1%)
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0-500W可调
(稳定性:±1%)
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0-100W可调
(稳定性:±1%)
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射频频率
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13.56 MHz
(稳定性:±0.5%)
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13.56 MHz
(稳定性:±0.5%)
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13.56 MHz
(稳定性:±0.5%)
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匹配
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自动匹配
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自动匹配
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手动匹配
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噪音
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<50dB
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<50dB
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<50dB
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冷却方式
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风冷
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风冷
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风冷
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输入电压
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AC180-250V
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AC108-250V
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AC110-240V
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图片
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真空系统
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▪ 采用TRP-12的双旋真空泵;
▪ KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵;
▪ 真空度可达10-2Torr。
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供气系统
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▪ 四通道质子流量计控制系统可实现气体流量的精确控制(精确度:±0.02%);
▪ 流量范围:
一路
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0-100 sccm
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二路
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0-200 sccm
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三路
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0-200 sccm
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四路
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0-500 sccm
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▪ 电压:208-240V, AC, 50/60Hz;
▪ 气体进出口配件:6mm OD的聚四氟管或不锈钢管;
▪ 不锈钢针阀用于手动控制气体进出;
▪ PLC触摸屏可以简便地进行气体流量设置。
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产品尺寸和重量
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▪ 炉体尺寸:2800mm L ´ 800mm W ´1700mm H;
▪ 混气系统尺寸:600mmL´850mm W´700mm
▪ 净重:180kg
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认证
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▪ CE认证
▪ 所有电器元件通过 UL / MET / CSA认证
▪ 如您另外付费,我们可以保证单台仪器的TUV(UL61010)或CSA 认证
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承诺
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▪ 一年质保期,终身维护(不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件)
▪ 因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
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